半導體Easy Play

半導體Easy Play

 

實驗設計單位:台灣半導研究中心

 

🧪實驗材料

  • 感光電路板
  • 顯影粉
  • 蝕刻粉
  • 蝕刻液體回收粉
  • 白紙與麥克筆,或是有圖案之透明膠片
  • 塑膠夾子或鑷子,或是筷子
  • 手部防酸鹼護具
  • 曝光機,或是日光燈或是 UV 燈(擇一)
  • 塑膠容器,或玻璃容器
  • 水 800cc / 600cc,各1
  • 膠帶
  • 剪刀
  • 光罩

 

🔬實驗步驟

  • 前置準備,調配顯影溶液與蝕刻溶液
  • 將顯影粉倒入較多的水中(800cc);蝕刻粉倒入較少的水中(600cc)
  • 準備要進行曝光的光罩,用麥克筆將白紙繪製想要的圖案
  • 用剪刀剪下圖案,並使用膠帶將光罩貼合在感光電路板上
  • 放入曝光機,進行曝光 (使用白紙曝光 250 秒;日光燈照射所需 8 - 12 分鐘以上)
  • 曝光完後將電路板放入顯影液體,等待顯影完成
  • 將顯影完成的感光電路板,經過水清洗後,放入蝕刻液體
  • 等待電路板上裸露的銅金屬被蝕刻完
  • 拿出電路板進行清洗後,放入顯影液,去除光阻
  • 電路板製作完成

 

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